Большая техническая энциклопедия
0 1 3 4 9
D V
А Б В Г Д Е Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Ь Э Ю Я
ДА ДВ ДЕ ДИ ДЛ ДО ДР ДУ ДЫ ДЮ

Дополнительная экспозиция

 
Дополнительная экспозиция при контактном печатании в копировальном аппарате невозможна, однако и здесь во многих случаях можно под менее плотные участки негатива заранее прикрепить к матовому стеклу прибора полоски папиросной бумаги, а экспозицию рассчитывать по наиболее плотным участкам негатива.
Дополнительная экспозиция под клином 15 мин.
После дополнительной экспозиции 1 - 10 7 мм рт. ст. - 1 мин интенсивности и распределения интенсивности основных пиков сильно изменились и появились новые пики половинного порядка на азимуте ( 310) в дополнение к ранее имевшейся структуре с 2 х 2 - СО. Пики половинного порядка на азимутах ( 100) и ( 310) достигают максимума при экспозиции 2 - 10 - 6 мм рт. ст. - 1 мин. Дальнейшая экспозиция приводит к постепенному уменьшению интенсивности всех пиков, и в распределениях интен-сивностей пиков интегральных порядков появляются новые максимумы. Постепенное уменьшение интенсивности связано с присутствием аморфной СО, слабо связанной поверх хемосорбционного слоя. Появление широкого слабого пика половинного порядка на азимуте ( 110) указывает на некоторую упорядоченность адсорбционного слоя. Дополнительная экспозиция приводит к дальнейшему уменьшению интенсивности, но новые пики больше не появляются. Эти структуры СО оказались стабильны при комнатной температуре, и после примерно 12-часовой выдержки в ультравысоком вакууме никаких изменений в дифракционной картине не наблюдалось.
При дополнительной экспозиции достаточно экспонированные участки изображения надо прикрывать рукой или вырезанным по контуру куском картона.
Кривые показывают, что дополнительная экспозиция создает весьма слабое внутреннее скрытое изображение, количество которого мало зависит от степени созревания эмульсии. Так как первая обработка хромовой кислотой окисляет как центры скрытого изображения, созданные предварительной засветкой, так и значительную часть поверхностных или подповерхностных центров светочувствительности, то полученный результат показывает, что в отсутствие этих центров образуется сравнительно весьма слабое скрытое изображение. Однако окисление поверхностных центров светочувствительности может только способствовать образованию внутреннего скрытого изображения.
Можно видеть, что дополнительная экспозиция вызывает значительное увеличение светочувствительности эмульсии и тем самым тождественна применению проявителя высокой энергии или продлению проявления, которое может рассматриваться как приводящее в состояние законченных центров те частицы серебра, которые состояли бы только из субцентров в случае непродолжительного проявления. Эта концепция подтверждена новыми опытами, которые значительно уточнили состояние и расположение центров скрытого изображения.
На левом отпечатке облака воспроизведены неудовлетворительно; на правом отпечатке облака усилены дополнительной экспозицией.
Другой прием состоит в том, чтобы использовать свет, который имеется в помещении, для дополнительной экспозиции.
Для данного изображения это особенно важно, поскольку обычно при печати последующих негативов большие участки снимка получают дополнительные экспозиции. Дефекты каждого из них имеют соответственно меньшее значение, потому что на каждый ил них приходится малая часть общей экспозиции. Тем не менее такие дефекты даже на ВЗ и СЗ могут принести неприятности. Они не столь неприятны на D5, который печатают так, чтобы экспозиция точно соответствовала верхнему загибу характеристической кривой; при этом небольшие изменения выравниваются. Дефекты особенно заметны в больших однотонных областях очень светлого серого тона, например на изображении неба.
Чтобы на отпечатке не получились грязно-серое пятно или резкая граница, лист картона с отверстием в течение всей дополнительной экспозиции необходимо двигать.
Затем этой маской перекрывают ход лучей увеличительного аппарата или вставляют маску между копировальной рамкой и источником света. Таким образом обеспечивается дополнительная экспозиция участков позитива, соответствующих слишком плотным участкам негатива. Легкое движение руки или маски препятствует при этом образованию резко ограниченных зон освещения.
При тех инфракрасных экспозициях, которые использовались в этой работе, большая часть центров скрытого изображения поглощает, вероятно, не более одного кванта на центр [3], и, следовательно, такой центр уменьшается в размере не более чем на один атом серебра или / - центр. В соответствии с этим можно принять, что в результате дополнительной экспозиции количество центров почти критического размера, которые были достроены до размера, большего, чем критический, превосходит число субцентров, достроенных как раз до критического размера.
Некоторые авторы ( 1, 2 ] считают, что когда в результате равномерного освещения способность к проявлению получает только часть наличных эмульсионных микрокристаллов, то по крайней мере некоторые из остальных микрокристаллов содержат субцентры скрытого изображения, обладающие термической устойчивостью, но не способные ускорять проявление в данных условиях. Доказательством существования таких субцентров служит гот факт, что число проявляемых микрокристаллов часто возможно увеличить путем правильно выбранной дополнительной экспозиции. Такая обработка называется усилением скрытого изображения.
В одном из таких способов, эффективность которого должна быть приписана превращению субцентров в истинные центры проявления в результате увеличения их размеров, используется дополнительная экспозиция светом малой интенсивности. Сущность такого способа усиления иллюстрируется некоторыми опытами Уэбба и Ивэнса.
Таким образом, две основные причины отклонения от взаимозаместимости при высоких освещенностях, повидимому, состоят в уменьшении суммарного квантового выхода, обусловленного рекомбинацией части пар электрон: - дырка, и в образовании дисперсного скрытого изображения, которое проявляется с меньшей эффективностью, чем компактное скрытое изображение, образующееся при более низких освещенностях. Проявляемость кристаллов после экспонирования при столь высоких освещенностях может медленно возрастать при хранении вследствие диффузии атомов серебра и их конденсации, приводящей к образованию более компактного скрытого изображения. Дополнительная экспозиция при низкой освещенности способствует подобному усилению скрытого изображения, так как при таком экспонировании увеличивается вероятность захвата электронов на центре светочувствительности, а положительных дырок - на атомах серебра дисперсного скрытого изображения. Далее ионы серебра диффундируют к центру светочувствительности, так что дополнительная экспозиция вызывает эффективное перемещение атомов серебра от дисперсного скрытого изображения к центру светочувствительности.

Иногда оттенением добиваются выделения на снимке той или иной части изображения. При печати изображение выравнивают следующим образом: сначала дают общую - выдержку, ориентируясь по наименьшему почернению негатива. Затем специальной маской частично перекрывают свет под объективом фотоувеличителя и дают дополнительную экспозицию на плотные участки проецируемого изображения. Для того чтобы избежать образования на отпечатке четких контуров маски, надо в процессе печати плавно перемещать ее над листом фотобумаги.
Все это не означает, что получение совершенного отпечатка можно свести к математическим вычислениям или получению последовательности чисел, так как в процессе печати постоянно надо стремиться к осуществлению своих творческих замыслов. Следует решить, каким должен быть уровень светов и каким уровень теней. Может быть, лучшие результаты будут получены, если выбрать более контрастную фотобумагу и несколько закрыть при печати теневые области, а светам дать дополнительную экспозицию, используя простое маскирующее приспособление.
Именно такая проба, которая отличается от обычно рекомендуемой - подержать кусочек фотобумаги при имеющемся неактиничном освещении несколько минут и затем проявить - наиболее показательна. Посторонняя засветка может быть очень слабой. Если просто проявить бумагу, не делая отпечатка, вуаль может быть и незаметна. Но дополнительной экспозиции с помощью увеличителя оказывается достаточно, чтобы на отпечатке проявилась скрытая вуаль. А вуаль даже в самой слабой форме лишает снимок той сочности, которая ассоциируется с изображением превосходного качества-совершенно чистыми белыми светами, глубокими почти черными тенями и отличным разделением всех светлых тональностей. Именно поэтому для устранения любой вуали можно еще раз порекомендовать добавлять в позитивные проявители некоторое количество бензотриазола.
Таким образом, две основные причины отклонения от взаимозаместимости при высоких освещенностях, повидимому, состоят в уменьшении суммарного квантового выхода, обусловленного рекомбинацией части пар электрон: - дырка, и в образовании дисперсного скрытого изображения, которое проявляется с меньшей эффективностью, чем компактное скрытое изображение, образующееся при более низких освещенностях. Проявляемость кристаллов после экспонирования при столь высоких освещенностях может медленно возрастать при хранении вследствие диффузии атомов серебра и их конденсации, приводящей к образованию более компактного скрытого изображения. Дополнительная экспозиция при низкой освещенности способствует подобному усилению скрытого изображения, так как при таком экспонировании увеличивается вероятность захвата электронов на центре светочувствительности, а положительных дырок - на атомах серебра дисперсного скрытого изображения. Далее ионы серебра диффундируют к центру светочувствительности, так что дополнительная экспозиция вызывает эффективное перемещение атомов серебра от дисперсного скрытого изображения к центру светочувствительности.
Принцип трансформирования фотоизображения. При фотопечати с негативов, имеющих неравномерный интервал почернений, возникает необходимость затенить отдельные участки и обеспечить тем самым получение нормальных плотностей на снимке. Иногда оттенением добиваются выделения на снимке той или иной части изображения. При печати изображение выравнивают следующим образом: сначала дают общую выдержку, ориентируясь по наименьшему почернению негатива. Затем специальной маской частично перекрывают свет под объективом фотоувеличителя и дают дополнительную экспозицию на плотные участки проецируемого изображения. Иногда свет перекрывают рукой. Для того чтобы избежать образования на отпечатке четких контуров маски, надо в процессе печати плавно перемещать ее над листом фотобумаги.
Необходимость иметь хорошо проработанный, выравненный по плотностям негатив становится особенно очевидной при печати фотоснимков с большими увеличениями, например 24 х 30 см и больше. Именно в этих случаях казалось бы прекрасный негатив с четко просматриваемыми на просвет деталями дает вдруг весьма посредственные отпечатки. Облака, хорошо различимые на пленке, куда-то исчезают, и небо выглядит уныло-серым. А если, увеличив выдержку, пропечатать облака, на земле все сливается в сплошную темную массу. И не помогают ни подбор бумаги другой контрастности, ни дополнительная экспозиция отдельных темных участков.
После дополнительной экспозиции 1 - 10 7 мм рт. ст. - 1 мин интенсивности и распределения интенсивности основных пиков сильно изменились и появились новые пики половинного порядка на азимуте ( 310) в дополнение к ранее имевшейся структуре с 2 х 2 - СО. Пики половинного порядка на азимутах ( 100) и ( 310) достигают максимума при экспозиции 2 - 10 - 6 мм рт. ст. - 1 мин. Дальнейшая экспозиция приводит к постепенному уменьшению интенсивности всех пиков, и в распределениях интен-сивностей пиков интегральных порядков появляются новые максимумы. Постепенное уменьшение интенсивности связано с присутствием аморфной СО, слабо связанной поверх хемосорбционного слоя. Появление широкого слабого пика половинного порядка на азимуте ( 110) указывает на некоторую упорядоченность адсорбционного слоя. Дополнительная экспозиция приводит к дальнейшему уменьшению интенсивности, но новые пики больше не появляются. Эти структуры СО оказались стабильны при комнатной температуре, и после примерно 12-часовой выдержки в ультравысоком вакууме никаких изменений в дифракционной картине не наблюдалось.
Профиль экспозиции пит. записанных с помощью объектива с NA 0 8 и скважностью 50 % ( р1100 нм. Видно, что градиент экспозиции меньше в направлении дорожки, ием в направлении радиуса. Это значит, что эффект модуляции скважности заключается не только в модуляции длины пита, но и в изменении ширины и средней, глубины профиля экспозиции. На практике имеются два механизма, которые снижают это отрицательное влияние. Первый: максимум профиля экспозиции, который должен был бы сформировать самую глубокую часть пита в слое фоторезиста достаточно большой толщины, ограничивается поверхностью раздела между фоторезистом и стеклянной подложкой. Любая дополнительная экспозиция, достигшая этой границы, не может еще более углубить пит. Поэтому эффект различного уровня максимума экспозиции для различных скважностей практически незаметен.
 
Loading
на заглавную 10 самыхСловариО сайтеОбратная связь к началу страницы

© 2008 - 2014
словарь online
словарь
одноклассники
XHTML | CSS
Лицензиар ngpedia.ru
1.8.11